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第35章 必须搞光刻机（第2页）

“半导体1.0开始训练，预计完成时间，12小时。”

很好。

回去睡个觉，醒来差不多就能训练完成。

林深拿起手机直奔宿舍。

翌日，林深从睡梦中醒来。

半导体1.0已经完成了全部运算。

他心中狂喜，马上进行技术理论推导。

“光源采用自由电子激光、多层膜反射镜改进工艺、高灵敏度光刻胶、更加先进的多重曝光技术……”

采用上述技术制作出来的光刻机，生产出来的芯片，最小制程可以达到0.5nm。

林深心中狂喜。

强，太强了。

可以，硅基芯片上限太低，制程再往下走就到极限了。

以后如果要在芯片领域再突破，可能得考虑量子计算机了。

不过没事，当下凑合用用可以了。

林深心态很好。

一步一步来嘛，搞科研不是一蹴而就的。

虽然他已经和开挂没什么区别，但是想要实现突破，没有那么简单。

在星火聚变反应堆建设得如火如荼的时候，林深成立了一个小组，专门研究光刻机。

听到他要研究光刻机，科技部部长孟伟业大吃一惊。

“你小子搞什么飞机，光刻机哪有这么容易，小心步子大扯着蛋。”

作为科技部部长，孟伟业对芯片领域的难度无比熟悉，尤其是光刻机，更是难上加难。

近年来由于米国的封锁，导致龙国大力研发自主光刻机，可是将近10年过去了，虽然有所突破，但是依然很难赶上国际先进水平。

而林深刚准备搞可控核聚变，现在又要跑来研发光刻机，立马被孟伟业否决了。

就算林深再有能力，可控核聚变和光刻机完全是两个不同领域，就算是再天才的人，也不可能同时完全掌握两个领域的知识。

本着对天才的尊重，孟伟业还是联系了几位国内顶尖芯片专家，询问了对方的意见。

“张院士，如果要实现可以生产1nm制程以下的光刻机，当下最先进的技术手段可以实现吗？”

“多少？1nm？”

“想屁吃呢，龙国目光刻机采用多重曝光技术，最低也才能做到7nm，而且还无法就量产，1nm以下，天方夜谭，国外顶尖光刻机都做不到。”

芯片领域的张伟忠院士差点没被气出老血。

“孟伟业，我给你说你别搞哈，别又给我搞一些虚无缥缈的目标，你科技部长了不起啊？你不要给我哇哇叫，我怕你部长，有本事拿枪打我。”

“呃……”

孟伟业被骂了个狗血淋头。

“那我要是说，我是说假如哈。”

“如果有个天才说他能实现0.5nm制程的光刻机，你怎么看？”

“怎么看？”

“拉到精神病院里去看？做梦呢！”

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